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Mass Flow Controller(MFC)를 이용한 저농도 CO₂ 혼합가스 생성은 환경 분석, 반도체, 생명과학 등 정밀한 농도 제어가 필요한 분야에서 매우 중요한 공정입니다. 본 포스팅에서는 CO₂ 5% 혼합가스를 활용하여 500~2000 ppm 범위의 CO₂ 농도를 구현하는 계산 이론, 설정값 산출 방법 및 실무 적용 시 주의사항을 정리하였습니다. 1. 시스템 구성 및 가스 스펙CO₂ 희석 시스템은 두 개의 MFC를 사용하여 구성됩니다. 이 시스템은 하나의 MFC(MFC1)를 통해 CO₂ 5% 혼합가스를 공급하고, 다른 하나의 MFC(MFC2)를 통해 희석가스(Ar 또는 N₂)를 공급하여 원하는 농도를 생성합니다.구설요소가스 종류Full scale농도MFC1CO₂ in Ar100 SCCM5% CO..

CO₂ 저농도 혼합가스(500~2000 ppm)를 안정적으로 생성하는 것은 다양한 산업 및 연구 환경에서 필수적인 요구사항입니다. 본 포스팅에서는 Mass Flow Controller(MFC)를 활용한 CO₂ 희석 방식의 기술적 원리와 실무 적용 방안을 소개합니다. 1. CO₂ 희석 방식의 개요500~2000 ppm 수준의 저농도 CO₂ 혼합가스를 생성하기 위해 일반적으로 두 가지 방법이 고려됩니다:직접 희석 방식: 100% CO₂를 다단계 희석하여 목표 농도를 달성Pre-mixed 가스 희석 방식: 5% CO₂ in N₂ 또는 Ar 혼합가스를 이용하여 2차 희석실제 적용에서는 Pre-mixed 혼합가스를 사용하는 방식이 정밀도, 안정성, 반복성 면에서 더욱 우수합니다​. 2. 권장 시스템 구성 및 사양..