CO₂ 저농도 혼합가스(500~2000 ppm)를 안정적으로 생성하는 것은 다양한 산업 및 연구 환경에서 필수적인 요구사항입니다. 본 포스팅에서는 Mass Flow Controller(MFC)를 활용한 CO₂ 희석 방식의 기술적 원리와 실무 적용 방안을 소개합니다. 1. CO₂ 희석 방식의 개요500~2000 ppm 수준의 저농도 CO₂ 혼합가스를 생성하기 위해 일반적으로 두 가지 방법이 고려됩니다:직접 희석 방식: 100% CO₂를 다단계 희석하여 목표 농도를 달성Pre-mixed 가스 희석 방식: 5% CO₂ in N₂ 또는 Ar 혼합가스를 이용하여 2차 희석실제 적용에서는 Pre-mixed 혼합가스를 사용하는 방식이 정밀도, 안정성, 반복성 면에서 더욱 우수합니다. 2. 권장 시스템 구성 및 사양..
